高比表面積氫氧化鈣： 高比表面積氫氧化鈣生產以氧化鈣為原料，添加功能性復合助劑。經特定工藝生產， 結構上形成大量空穴，褶皺狀態，從而區別于傳統顆粒結構。比表面積是普通氫氧化鈣的3倍以上，且高比表比普通氫氧化鈣增加了鈣硫接觸點，提高了鈣硫反應效率。因此在氣體吸附、 反應活性、流動性、反應速度上具有無可比擬的優勢。

氧化鈣+助劑+水+特種設備＝高比表面積氫氧化鈣

高比表面積氫氧化鈣的生產，可在舊型號氫氧化鈣生產線上進行適當添加即可。生產過程中根據原料選擇不同助劑，進行成本控制。

高比表面積氫氧化鈣目前主要應用于SDS干法脫硫裝置，可用于蘭炭廠、焦化廠、玻璃廠、陶瓷廠、垃圾發電廠、鋼鐵廠、生物質燃料鍋爐。

高比表氫氧化鈣在脫硫行業發展趨勢：

（1）高比表氫氧化鈣替代小蘇打應用設備不需要大量改造，操作方便，可實現自動調節，人員需求少等特點，降低運行費用。

（2）脫硫效率高，對酸性物具有99％的脫除率。

（3）靈活性對焦爐工況適應性強，可以滿足嚴格的排放指標。

（4）脫硫產物為固廢，降低企業處理風險。

高比表面積氫氧化鈣在SDS干法脫硫中替代小蘇打是未來發展的必然選擇。